IMP工艺气体传输控制柜
离子注入（IMP:-mplant）通过精确控制离子能量、注入剂量和温度等参数，可以实现对材料表面性能的优化和新性能的获取，为半导体、材料科学、生物医学等领域的发展提供了有力支持。离子注入工艺气体传输控制柜是离子注入设备的重要组成部分，它负责在离子注入过程中精确控制气体的流量、压力等关键参数，以满足离子注入工艺对气体供应的严格要求。该控制柜集成了高精度的流量控制、压力调节以及安全保护功能，确保离子注入工艺的稳定性和安全性。
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产品特点
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产品参数
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质量管理
产品特点
高精度流量控制
流量控制器和压力调节器采用高精度设计，能够确保气体流量和压力的精确控制
通过对气路部分设计满足客户对小流量、低压力的气体流量控制，最终满足客户的工艺要求
安全稳定性
气柜配有门互锁开关、压力安全开关、单向阀、手动进切断阀等安全部件保证气柜安全
设备采用全304不锈钢，外观30mm以上圆弧过渡设计保证良好导电性，提高了设备的安全性能。
高气密性
产品采用IGS和VCR接口形式
实现半导体设备的高气密性
模块化
采用模块化设计，设备结构紧凑、模块化设计
便于维护和更换部件。nm以上的颗粒杂质
安全认证
通过SEMI S6测试安全认证
产品参数
| 外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保压测试50psi | 氮气保压测试，保压12h，压降 ≤1% |
| 氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可选） |
| 颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧测试 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可选） |
质量管理
新金宝官网质量管理秉承"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、过程全生命周期质量管理关注各环节中入口质量、过程质量、出口质量,以保证整体质量可控,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产品更具竞争力。
